SOLVERX Atopic Skin Pianka do mycia i demakijażu twarzy i oczu 200ml

19,89 zł
Wysyłka z magazynu: ⁨S6⁩
Przewidywana wysyłka: Mon, May 6 - Thu, May 9
14 dni na zwrotBez podawania przyczyny
Dostępność:
duża ilość
Producent:
SOLVERX
Kod produktu:
132917 / 5907479384790

Pianka do mycia i demakijażu twarzy i oczu Atopic Skin 200ml

Najbardziej delikatny sposób oczyszczania twarzy

Łagodna pianka do mycia i demakijażu twarzy i oczu przeznaczona do skóry atopowej i bardzo suchej. Pozostawia skórę doskonale oczyszczoną i przygotowaną na przyjęcie kolejnych produktów pielęgnacyjnych. Zawarty w składzie olej z otrąb ryżowych zmiękcza i wygładza skórę. Olej z nasion wiesiołka wykazuje silne działanie nawilżające, a olej z nasion smoczego owocu ujędrnia skórę, uelastycznia ją i wyrównuje koloryt. Ponadto receptura została wzbogacona w prebiotyki wspierające naturalny mikrobiom skóry.

Kluczowe składniki aktywne:

OLEJ Z NASION SMOCZEGO OWOCU - wykazuje silne właściwości nawilżające i regenerujące skórę.

KWAS LAKTOBIONOWY - wzmacnia mechanizmy naprawcze skóry i chroni ją przed wolnymi rodnikami. Silnie nawilża i stymuluje proces odnowy komórkowej.

OLEJ Z OTRĄB RYŻOWYCH - tworzy na powierzchni skóry warstwę okluzyjną zapobiegającą nadmiernemu odparowywaniu wody, przez co zmiękcza i wygładza zmarszczki.

OLEJ Z WIESIOŁKA - poprawia strukturę i wygląd skóry, zwiększa jej elastyczność i wyrównuje koloryt.

Skład: Aqua, Cocamidopropyl Betaine, Decyl Glucoside, Glycerin, Polysorbate 20, Oryza Sativa (Rice) Bran Oil, Oenothera Biennis (Evening Primrose) Seed Oil, Hylocereus Undatus (Dragonfruit) Seed Oil, Inulin, Alpha-Glucan Oligosaccharide, Glycyrrhiza Glabra Root Extract, Lactobionic Acid, Achillea Millefolium Extract, Niacinamide, Betaine, Panthenol, Citric Acid, Hyaluronic Acid, Propylene Glycol, Ethylhexylglycerin, Phenoxyethanol.

Informacje

Seria

SOLVERX - Atopic Skin

Mimo dołożenia wszelkich starań nie gwarantujemy, że publikowane dane techniczne i zdjęcia nie zawierają uchybień lub błędów, które nie mogą jednak być podstawą do roszczeń.

Strona główna